納米尺度芯片Art DFM仿真平臺
（2025年1月15日更新）
基于65/45/40/28納米銅和28納米高k金屬柵CMP工藝及DFM設(shè)計規(guī)則，研究小組開發(fā)了一套平坦和寄生效應(yīng)，與行業(yè)主流完全兼容EDA工具的DFM該平臺具有超大規(guī)模地圖快速處理的模擬平臺，ECP/CVD/PVD/CMP工藝模擬、熱輸出、反標(biāo)等功能。通過布局CMP分析檢查，找出熱點(diǎn)區(qū)域填充冗余金屬，并根AVX代理根據(jù)設(shè)計要求進(jìn)行修正，形成CMP模擬與參數(shù)提取相結(jié)合DFM優(yōu)化流程。DFM該平臺解決了快速并行處理復(fù)雜超大布局的技術(shù)問題，能夠滿足65/45/40/28納米全芯片布局處理的要求。該平臺的性能已達(dá)到行業(yè)先進(jìn)水平，并已通過OEM和科研機(jī)構(gòu)的嚴(yán)格測試和驗證，各項指標(biāo)均達(dá)到行業(yè)使用標(biāo)準(zhǔn)。DFM該平臺可以整合第三方研究結(jié)果，模擬輸出可以與行業(yè)主流寄生參數(shù)提取工具無縫連接，準(zhǔn)確提取寄生參數(shù)，提高順序的收斂性。
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納米芯片DFM平臺
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